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中共沈阳腐败观察:一名在美中国科技人员因向中方提供军事文件被判刑

2017年07月01日 综合新闻 ⁄ 共 356字 ⁄ 字号 暂无评论

杨囝燊转自自由亚洲电台

美国康涅狄格州哈特福德消息:据美联社6月22日报道,一名中国籍科技人员因向中方提供美国军工企业敏感文件,当天被美国联邦法院判处2年零6个月有期徒刑。检方表示,现年39岁的中国公民余龙(Yu Long,音译),在位于康涅狄格州哈特福德市东部的联合科技公司担任工程师期间,窃取多份文件带往中国。据报道,余龙的工作曾涉及美军战机F-22和F-35所采用的引擎研发。检方指控余龙利用在美供职获得的技术信息,谋求在中国工作。

余龙2013年离职前,向中国科学院附属沈阳自动化研究所负责人传递了多份联合技术公司的文件,并在中国期间,还使用了非法窃取的该公司外部储存硬盘。据报道,余龙于2014年11月,盗取另一家美国国防承包商劳斯莱斯专利文件后,试图从新泽西州纽瓦克国际机场离境前往中国时被捕。
(责编:何平

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